PECVD-zračni tlak

Ko nastane plazma, je tlak plina prevelik, reakcijski plin v enoti se poveča, zato se hitrost poveča, vendar je hkrati zračni tlak previsok, povprečna prosta pot se zmanjša, kar ne prispeva k pokritost nanosnega filma na stopnici. Prenizek zračni tlak bo vplival na mehanizem nanašanja filma, kar bo povzročilo zmanjšanje gostote filma in enostavno nastanek napake igle. Ko je zračni tlak previsok, se reakcija polimerizacije plazme očitno poveča, kar povzroči zmanjšanje pravilnosti rastne mreže in povečanje napak.

Podjetje IKS PVD, stroj za dekorativne premaze, stroj za premazovanje orodij, stroj za premazovanje DLC, stroj za optično premazovanje, linija za vakuumsko nanašanje PVD, na voljo je projekt na ključ. Pišite nam zdaj, e-pošta: iks.pvd@foxmail.com