Nanašanje s PVD razprševanjem

Nanašanje z razprševanjem

Načelo: V vakuumski komori se inertni plin (kot je Ar) ionizira z visoko-napetostnim električnim poljem, da se ustvari plazma. Pozitivno nabiti ioni Ar⁺ pod pospeševanjem električnega polja bombardirajo površino tarčnega materiala. S prenosom gibalne količine se atomi ciljnega materiala "razpršijo" (v plinastem stanju) in nato odložijo na površino substrata, da tvorijo film. Glavne prednosti: močan oprijem med filmom in substratom, visoka enotnost sestave (blizu sestave ciljnega materiala) in širok nabor materialov, ki jih je mogoče nanesti (kovine, zlitine, keramika, spojine itd.). Glavne tehnologije Magnetronsko razprševanje (magnetron Sputtering) je najpogosteje uporabljena tehnologija razprševanja v polprevodnikih. Z omejevanjem poti gibanja elektronov skozi magnetno polje podaljša čas trka med elektroni in plinom, poveča gostoto plazme, s čimer izboljša učinkovitost razprševanja in hitrost nanašanja tankega filma, hkrati pa zmanjša dvig temperature podlage. Primerno za toplotno-občutljive polprevodniške substrate (kot so silicijeve rezine).

Podjetje IKS PVD ponuja stroje za dekorativne premaze, stroje za premazovanje orodij, stroje za premazovanje DLC, stroje za optične premaze in linije za vakuumsko nanašanje PVD, s projekti na-na ključ. Pišite nam zdaj, E-e-pošta: iks.pvd@foxmail.com