Čiščenje plazme

Čiščenje plazme pomeni uporabo plazme za doseganje rezultatov, ki jih običajne čistilne metode ne morejo doseči. Plazma je stanje snovi, imenovano tudi četrto stanje snovi, ki ne sodi v skupno tri stanje trdnih, tekočih in plinskih. Uporaba ionske pline dovolj energije za plin postane plazemsko stanje.

"Aktivne" komponente plazme so ioni, elektroni, atomi, reaktivne skupine, nuklidi v vzbujanem stanju (stanje metastaze), fotoni in tako naprej. Čiščenje plazme pomeni obdelavo površine vzorca z uporabo lastnosti teh aktivnih komponent, da dosežemo učinke čiščenja in prevleke. Površino obdelovanca obdelamo s kemičnim ali fizikalnim delovanjem, da dosežemo odstranjevanje onesnaževal na molekularni ravni, s čimer izboljšamo površinsko aktivnost obdelovanca. Odstranjeni kontaminanti lahko vsebujejo organsko snov, epoksidno smolo, fotorezistent, okside, onesnaževala iz mikrodelcev itd., Zato je čiščenje plazme nekakšno natančno čiščenje. Različne postopke čiščenja je treba uporabiti za različna onesnaževala. Na splošno se čiščenje plazme razvrsti v kemično čiščenje, fizično čiščenje in fizično kemično čiščenje, odvisno od izbranega procesnega plina.