Uvedbe PVD prevleke znanja
Mar 06, 2019| Uvedbe PVD prevleke znanja
IKS PVD, iks.pvd@foxmail.com
PVD (fizično Nanašanje tankih plasti): proces prenosa atoma ali molekule iz vira na površini podlage s pomočjo fizičnega procesa. Njena vloga je, da nekatere posebne lastnosti (visoka trdnost, odpornost proti obrabi, odvajanje toplote, korozijska odpornost, itd) delcev, ki razprši na matriko z nižjo uspešnost, tako, da je matrika ima boljše delovanje. Osnovne metode PVD: vakuumskim izhlapevanjem, Rasprašenje, ionsko nanaΉanje (votlo katodo Ionsko nanašanje, vroče katodne Ionsko nanašanje, lok ionsko nanaΉanje, reaktivni ionskih, rf ionske plošče, dc razrešnice Ionsko nanašanje)
PVD tehnologije pojavila v pripravo tankih plasti z visoko trdoto, nizkega koeficienta trenja, obrabe dobro odpornost in kemijske stabilnosti in druge prednosti. Sprva, uspešno uporabo polje jeklenih orodja visoke hitrosti je pritegnil veliko pozornosti iz predelovalne industrije po vsem svetu. Medtem ko v razvoju visoko zmogljivost in visoko zanesljivost premaz opreme, ljudje so tudi opravljeni bolj poglobljene raziskave o prevleka uporabi v zlepljeni karbida in keramiko. V primerjavi s postopkom CVD, PVD proces temperature je nizka, pod 600℃Ko orodje upogibni trdnosti rezanje materialov; Notranje napetosti film je tlačni napetosti, ki je bolj primeren za lakiranje zlepljeni karbida natančnost in zapletena orodja. PVD proces ne vpliva škodljivo na okolje, v smeri razvoja sodobne proizvodnje zelene. Trenutno PVD prevleke tehnologije je bilo pogosto uporablja pri zdravljenju premaz karbida endmill, drill bit, korak drill, vrtanje nafte luknjo, reamer, pipe, indeksnih glodalo, obračanja rezilo, posebni obliki cutter, varjenje rezalnik in tako naprej.
PVD tehnologija ne le izboljšuje moč vezi med tanke plasti in orodje matriko materiala, ampak tudi razvija prevleko sestave iz prve generacije TiN TiC, TiCN, ZrN, CrN, MoS2, TiAlN, TiAlCN, tin-aln, CNx, DLC in ta-c, itd [2]
Okrepljeno magnetno nadzorovano katodne lok: katodna obločno tehnologije je za dokončanje Nanašanje tankih materialov film pod pogojem vakuum z razpadla cilj v državi ionov skozi nizke napetosti in visoke toka. Okrepljeno magnetronsko katodne lok lahko učinkovito kontrolo loka na površini ciljni material s pomočjo interakcije elektromagnetnega polja, tako da je jakost ionizacije materiala je višji in uspešnosti filma je bolje.
Filtrirane katodnega: filtrirane katodnega (FCA) elektromagnetni filtrirni sistem, opremljen z visoko učinkovito ionski vir, lahko po filtraciji magnetnih delcev v sedimentnih izdela makroskopske delce v plazmi in ion množično filter čist, stopnja ionizacije je 100 %, in lahko izločijo večjih delcev, tako za pripravo filma je zelo kompaktna in gladko, z dobra korozijska odpornost, in moč oprijema telesa je zelo močna.
Magnetronsko Rasprašenje: v vakuumsko okolje, cilj je bombardiran ionizirane inertnega plina ionov skozi kombiniranega delovanja napetosti in magnetno polje, zaradi česar cilj odleteti v obliki ionov, atomov ali molekul in nanesejo na podlago za nastane film. Po izvoru ionizacija uporablja, dirigent in ni prevodnik materialov lahko biti tankoplastno razpršenega kot cilj materialov.
Ionski DLC: ogljikovodikov plina ioniziran v plazmi v ionski vir. Pod kombiniranega delovanja elektromagnetnega polja, ogljikovega iona je oproščen vir ionov. Energije v ionski nadzira prilagajanje napetosti, ki se uporabljajo za plazme. Ogljikovodikov ionski je usmerjeno k substrata in stopnje nanaΉanja je sorazmerna z gostoto toka ion. Ion svetlobni vir zvezda lok premaza je visoke napetosti, tako ionov energije je večja, ki naredi film in podlage imajo dober oprijem. Večje ion, ki je trenutno omogoča hitrost usedanja filma DLC hitreje. Glavna prednost ion širina tehnologija je lahko polog ekstremen-tanek in večplastno strukturo, proces kontrole natančnosti lahko dosežejo več angstromih, ki mogoče minimirati okvare, nastale zaradi delcev onesnaževanja v procesu.
